高真空膜滲透設備該高真空膜滲透裝置內部閥控部件全部采用日本進口CKD電磁閥程序控制，該裝置結構布局合理，操作便捷，可實現(xiàn)膜滲透實驗的穩(wěn)定進行。該設備工作溫度室溫8~60℃，工作壓力為0~1Mpa，真空度可低至3 Pa。設備通訊模塊皆采用rs485通訊連接，采集數(shù)據(jù)穩(wěn)定，可實驗自動循環(huán)抽真空和手動抽真空等操作。

工作溫度：室溫8~60℃

真空度：3 Pa

使用壓力：0~1Mpa

高真空膜滲透設備可用于測試0-10mpa壓力范圍內的動態(tài)多元材料吸附測試；設備安裝穩(wěn)定的背壓閥及氣體高壓倉，用于快速穩(wěn)定的實現(xiàn)系統(tǒng)壓力穩(wěn)定及氣體流速穩(wěn)定。